高阻层f1为什么不漂移叫漂移区

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018微米高压工艺影响衬底缺陷现象的研究
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复合多晶硅栅LDMOS器件的结构设计与电学特性分析
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硕士学位论文
复合多晶硅栅LDMOS器件的结构设计与电学特性分析
申请学位级别:硕士
专业:电路与系统
指导教师:柯导明;陈军宁
近年来,随着以蜂窝式移动通信为主的通信市场爆炸式的增长,人们对于性
能优异的 器件的需求越来越广泛,例如通讯基站使用的发射放大器,
其工作频率在到.之间,工作电压在左右。对于射频
器件,除了电流电压特性方面的要求外,还对器件在频率方面提出了更高的要求,
所以,在设计新的应用于通讯的器件时,必须在高压和高频两方面
进行考虑。基于以上两点的考虑,本文提出了一种复合多晶硅栅,
,这种结构同时改善了的高压与高频特性,适用
于射频放大电路。
本文首先介绍了在射频领域中的应用和其具有的优势,接着介绍了
的器件结构和特性,然后针对当前改善特性所采取的主要手段,
介绍了几种具体的结构,并比较了其主要性能参数。
本文提出的.结构采用了栅工程的概念,所设计的栅.和
?两块并列组成,用高功函数多晶硅,?用低功函数多晶硅。
在复合多晶硅栅的实现工艺上,本文采用了一种补偿注入的方法,只需利用一块
掩模板就可形成复合栅电极结构,工艺简单可行,同时,本文利用工艺模
拟软件对?器件进行了工艺模拟,并给出了简明工艺流程。
阈值电压是器件的重要参数之一,为了使电路模拟软件能够正确模拟
电路的特性,建立精确的闽值电压模型是非常重要的。由于的栅
电极由掺杂类型和浓度不同的多晶硅材料构成,而且沟道是非均匀掺杂,因此很
难通过解泊松方程来求阈值电压的解析模型。本文通过模拟软件分析了
的闽值电压与复合栅长度比例、功函数差之间的关系,并在普通
阙值电压模型的基础上建立了含有经验参数的的阈值电
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