超高真空和高真空磁控溅射膜的区别

来源：蜘蛛抓取(WebSpider) 时间：2016-06-11 09:35 标签： 真空磁控溅射膜
题名:&用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶;&&用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶;&&用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶;&&用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶
作者:&;&&;&&;&&;&&
申请日期:&2008
推荐引用方式：
李新化,邱凯,尹志军,钟飞,陈家荣 .用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶 .cn08
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北京泰科诺科技有限公司产品
供应JCPF-2000高真空多靶磁控溅射镀膜机
产品具体信息
品牌：北京泰科诺
型号：JCPF-2000
规格：高真空多靶磁控溅射镀膜机
适用行业：高校科研机构及相关企业
系统为单室立式方形结构的超高真空双靶位多功能磁控溅射镀膜设备，可用于在较大面积基片上均匀沉积纳米级单层及多层功能膜-各种金属膜、透明导电膜、介质膜等。技术说明镀膜方式：直流/中频/射频磁控溅射镀膜制膜种类：金属膜（包括铁、钴、镍等磁性膜）、半导体膜、化合物膜；多层膜、反应膜等制膜大小：300mm&300mm腔室大小：L&H750mm溅射靶：矩形平面磁控靶两只溅射电源类型：双极脉冲中频电源2台（可选配直流溅射电源、射频电源）真空室结构：侧开门结构，后置抽气系统极限真空：8.0&10-5Pa膜厚不均匀性：&&5%工件烘烤温度：室温至300℃可调可控（PID控温）工件运动方式：往复运动往复运动：2路气体流量控制及显示系统可选报警及保护：对泵、靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施控制方式：自动抽真空，可选配PLC手自动控制或计算机控制选购件：离子清洗、循环水机、膜厚监控仪
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　　北京泰科诺科技有限公司是一家专门从事真空设备的研发、生产、销售的专业化公司。公司位于中关村科技园区。公司主要技术骨干来源于中科院各单位，充分发挥中科院的人才优势、技术优势、信息优势，为中国真空设备的崛起而发挥应有的作用。&我公司共有六大类产品，从低真空－高真空－超高真空十多个系列六十多个品种。主要产品处于国际水平，有多种产品填补了国内空白，拥有较高的技术含量。如粉体颗粒表面镀膜，异型体表面镀膜等。...
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中美合资合肥科晶材料技术有限公司
等离子镀膜设备,高真空蒸发镀膜仪,双靶磁控溅射仪,3靶等离子溅射仪,射频/直流等离子磁控溅射镀膜仪
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1英寸高真空磁控溅射头--HVMSS-SPC-1-LD
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【简单介绍】
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。
【详细说明】
&是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。技术参数特点采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命标准的HN型接头，可与和电源相匹配安装是采用标准真空接头，便于操作更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度配有一块铜靶溅射头&（点击图片查看详细资料）溅射头的直径:46.3mm所用靶的直径靶材的最大厚度磁环稀土永磁铁&&&&&&杆的直径&所需功率最大（最大）最大阴极溅射电流3A阴极溅射电流可选压力范围至溅射厚度均匀性图&注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：功率：直流真空环境：靶材与基片的距离：水冷却所需水流量：进水温度：水管接头：快插头接头电路连接接头：标准的HN型接头，可与和电源相匹配本公司会赠送一高真空快速接头此快速接头的内径为，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于英寸&&产品长度14英寸（产品重量1.36kg倾斜装置溅射头相对于杆最大可倾斜度倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度可选配件循环水冷机，流量为，水箱容积为6L本公司可提供各种配件可与配套，让客户自己搭建磁控溅射仪质保期一年质保期终生维护应用在真空腔体中-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：薄膜涂覆半导体器件磁记录介质超导薄膜量子计算器件生物传感器纳米技术超晶格颗粒膜记忆合金组合薄膜沉积光学薄膜
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