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使用等离子清洗机时该注意哪些
等离子清洗机(plasmacleaner)也叫等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。等离子清洗机可用于清洗、刻蚀、活化和表面准备等,可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器,以适应不同的清洗效率和清洗效果需要。等离子体和固体、液体或气体一样,是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。那么等离子清洗机在运行的时候应该要注意哪些事项呢?下面就由南京世锋科技来给大家讲讲吧:1、正确设置等离子设备的运行参数,按时设备使用说明书来执行;2、保护好等离子体的点火装置,以确保等离子清洗机可以正常的启动;3、等离子设备在启动前的准备工作,要对相关的人员进行培训,同时确保操作等离子清洗机的人员可以按照要求严格执行各项操作;4、在一次风管没有通风的时候,等离子体的发生器运行时间不能超过设备说明书上面要求的时间,防止烧坏燃烧器,造成不必要的损失;5、如果需要对等离子设备进行维护时请将等离子发生器进行断电后再进行相应的操作。等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。好了,希望上述介绍能够给各位带来帮助!
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离子清洗机又名等离子清洗机是通过等离子体中活性粒子的达到去除物体表面污渍的清洗设备
无机气体被激发为等离子态→气相物质被吸附在固体表面→被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子→产物分子解析形成气相→反应残余物脱离表面1离子清洗机不分处理对象的基材类型均可进行处理如金属半导体氧化物和大多数高分子材料等并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗
2容易采用数控技术自动化程度高
3具有高精度的控制装置时间控制的精度很高
4正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层表面质量得到保证
5在真空中进行不污染环境保证清洗表面不被二次污染离子清洗机主要通过反应类型和激发频率两个方面来分类
等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应离子轰击和
物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面使污染物脱离表面最终被真空泵吸走物理反应为主的等离子体清洗也叫做溅射腐蚀SPE或离子铣IM其优点本身不发生化学反应清洁表面不会留下任何的氧化物可以保持被清洗物的化学纯净性缺点对表面产生了很大的损害会产生很大的热效应对被清洗表面的各种不同物质选择性差腐蚀速度较低典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗
化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质再由真空泵吸走挥发性的物质
化学反应为主的等离子体清洗的优点清洗速度较高选择性好对清除有机污染物比较有效缺点表面产生氧化物典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗通过等离子体产生的氧自由基非常活泼容易与碳氢化合物发生反应产生二氧化碳一氧化碳和水等易挥发物去除表面的污染物
激发频率分类
等离子态的密度和激发频率的关系式 nc=1. 其中nc为等离子态密度cm-3v为激发频Hz 等离子体激发频率分为频率为40kHz的等离子体为超声等离子体13.56MHz的等离子体为射频等离子体2.45GHz的等离子体为微波等离子体
超声等离子体的自偏压为1000V左右射频等离子体的自偏压为250V左右微波等离子体的自偏压很低只有几十伏超声等离子体发生的反应为物理反应射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应微波等离子体发生的反应为化学反应
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电浆清洗机; ; Plasma C
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离子清洗机，又名等离子清洗机，是通过等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的清洗设备。它具有容易使用和保养的特点。触摸屏控制系统使用起来非常直观、简单，可以控制和监督水洗机的所有重要功能。
一、离子清洗机概述
离子清洗机，又名等离子清洗机，是通过等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的清洗设备。
自1952年以来，“TDC公司”就一直给电子行业提供高质量的生产设备，并且由于我们优质的售后服务和技术支持而获得极高的声誉。此外，“TDC公司”走在世界清洗技术的前列，生产创新、优质、可靠的产品，同时又不对环境造成任何不良的影响。Nu/CLEAN型生产线水洗机是当今同类产品市场上最安全、最安静、最节能的产品。“TDC公司”还是第一个生产混合动力水洗机的公司, 供选用的混合动力Nu/CLEAN型水洗机因为使用天然气而不是电能来加热水洗机里面的水而可以大大节省能源成本。
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二、离子清洗机的清洗原理
无机气体被激发为等离子态→气相物质被吸附在固体表面→被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子→产物分子解析形成气相→反应残余物脱离表面。
三、离子清洗机的清洗特点
1、离子清洗机不分处理对象的基材类型，均可进行处理，如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
2、容易采用数控技术，自动化程度高。
3、具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高。
4、正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证。
5、在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。
四、离子清洗机的清洗分类及性能
离子清洗机主要通过反应类型和激发频率两个方面来分类。
1、反应类型分类
等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应（离子轰击）和化学反应。
1）物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面，使污染物脱离表面最终被真空泵吸走。物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点：本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性。缺点：对表面产生了很大的损害，会产生很大的热效应，对被清洗表面的各种不同物质选择性差，腐蚀速度较低。典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。
2）化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质，再由真空泵吸走挥发性的物质。化学反应为主的等离子体清洗的优点：清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效，缺点：表面产生氧化物。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，去除表面的污染物。
2、激发频率分类
等离子态的密度和激发频率的关系式： nc=1. ，其中nc为等离子态密度（cm-3），v为激发频（Hz）。 等离子体激发频率分为：频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏。超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。
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